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真空爐為何選鉬片作反射屏

真空爐是一種在高真空環(huán)境下進(jìn)行高溫?zé)崽幚砘虿牧霞庸さ脑O(shè)備,廣泛應(yīng)用於藍(lán)寶石晶體生長(zhǎng)、金屬熱處理、陶瓷燒結(jié)等領(lǐng)域。在真空爐中,反射屏是關(guān)鍵部件,用於減少熱量損失、提高熱效率並保護(hù)爐體結(jié)構(gòu)。鉬片因其優(yōu)異的物理和化學(xué)性能,成為真空爐反射屏的優(yōu)選材料。

中鎢智造鉬片圖片

中鎢智造鉬片圖片

鉬的熔點(diǎn)高達(dá)2623°C,遠(yuǎn)超許多常見金屬材料如鐵、鎳等,使其能夠在極端高溫下保持結(jié)構(gòu)穩(wěn)定性和機(jī)械強(qiáng)度。在高溫真空環(huán)境中,鉬片不會(huì)發(fā)生顯著的軟化、變形或熔化,能夠長(zhǎng)期承受熱輻射和熱衝擊,確保反射屏的可靠性和使用壽命。相比之下,普通金屬材料在如此高溫下可能快速失效,導(dǎo)致反射屏變形或破損,影響爐內(nèi)熱場(chǎng)的均勻性。

鉬片在真空或還原性氣氛中表現(xiàn)出較好的化學(xué)穩(wěn)定性,不會(huì)與爐內(nèi)殘餘氣體或保護(hù)氣體發(fā)生化學(xué)反應(yīng),也不會(huì)與被加工材料產(chǎn)生化學(xué)作用。這種化學(xué)惰性有效避免了反射屏表面生成氧化物或其他化合物,防止了雜質(zhì)進(jìn)入加工材料,從而保證了產(chǎn)品的品質(zhì)。

中鎢智造鉬片圖片

中鎢智造鉬片圖片

反射屏的主要功能是通過反射熱輻射減少熱量損失,提高真空爐的熱效率。鉬片具有較高的熱反射率,能夠有效將爐內(nèi)的紅外輻射反射回加熱區(qū),減少熱量向爐壁的傳遞,從而降低能耗並提高溫度均勻性。鉬片表面可以通過拋光處理進(jìn)一步提高反射率,增強(qiáng)其熱遮罩效果。此外,鉬的低熱導(dǎo)率也有助於減少熱量通過傳導(dǎo)損失,使其在高溫環(huán)境下作為反射屏的性能表現(xiàn)出色。

鉬片具備出色的延展性與加工特性,可借助軋製、切割、衝壓、焊接等工藝,被加工成各類複雜形狀,以契合不同真空爐的設(shè)計(jì)要求。無論是圓形、筒形反射屏,還是多層結(jié)構(gòu)的反射屏,鉬片均能通過精密加工實(shí)現(xiàn)適配。

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