當前，制備三氧化鎢半導體薄膜的方法有多種，比如粉末涂覆法、水熱合成法、溶膠凝膠法。粉末涂覆法雖然簡單，但是容易導致薄膜厚度不均勻，每次涂刮的厚度較厚，干燥時應力集中，容易產(chǎn)生裂紋；水熱合成法雖然制備樣品純度高，但是制備過程復雜，成本較高，不能廣泛應用；溶膠凝膠法制備的薄膜結(jié)構致密，但是比表面積較小。因此，為了彌補現(xiàn)有生產(chǎn)方法的不足，科學家們設計出了一種三氧化鎢半導體薄膜新的制備方法。
一種三氧化鎢半導體薄膜新制備方法，即是絲網(wǎng)印刷法，該方法用的漿料要求不高，只需流動性好，粘度低即可，且重復性好，薄膜厚度易控制，能實現(xiàn)大規(guī)模批量生產(chǎn)。其具體步驟如下：
（1）取0.9g質(zhì)量分數(shù)為10%的乙基纖維素，加入到8.1g乙醇溶液中，再逐步加入9.6g松油醇和9.2g無水乙醇，混合均勻；向所得混合液中加入5.6-6.0g WO3顆粒，磁力攪拌10-20min，再超聲分散10-20min，磁力攪拌和超聲分散交替操作3-5次；在50℃下旋轉(zhuǎn)攪拌蒸發(fā)至無水乙醇蒸發(fā)完全為止，再加入0.6ml乙酰丙酮和0.6ml的OP乳化劑，攪拌均勻，得到三氧化鎢漿料（WO3漿料）；
（2）通過絲網(wǎng)印刷法在清洗干凈的FTO玻璃導電面上印刷4-6層三氧化鎢漿料，然后在自然環(huán)境下，在500℃下退火30min。退火流程：將印刷有多層三氧化鎢漿料的FTO玻璃放入馬弗爐中，設置溫度從60℃在2h內(nèi)升到500℃，然后在500℃下保溫30min，最后冷卻到60℃，在FTO玻璃上得到三氧化鎢半導體薄膜。
該方法的注意事項：
1）步驟（2）所述FTO玻璃采用以下方法進行清洗：將FTO玻璃放置在清洗架上，然后放入燒杯中，依次使用丙酮、無水乙醇、蒸餾水各超聲清洗5min，清洗結(jié)束后，用潔凈的鑷子把玻璃片從架子上取出并且用無塵布擦干。
2）步驟（2）所述印刷4-6層三氧化鎢漿料的過程中，每印刷完一層，在鼓風干燥箱內(nèi)100℃條件下加熱8-10min。
